革新。
1。超音波インジウムコーティング技術の基本原理
超音波インジウムコーティング機のコアは、超音波振動システムと精密流体制御の組み合わせにあります。そのワークフローは、次の重要な手順に分けることができます。
（1）超音波キャビテーション効果（キャビテーション）
超音波発生器（通常は20kHz〜100kHzの周波数の）は、電気エネルギーを高-周波数の機械的振動に変換し、トランスデューサーを介してインジウムコーティングノズルまたは基質表面に送信します。
高い-周波数振動により、液体インディウムがキャビテーション気泡を生成します。泡が即座に崩壊すると、彼らは巨大なエネルギーを放出し、インジウム液の表面張力を破壊し、基質を濡らしやすくなり、従来のコーティングにおける「収縮」または「凝集」現象を避けます。
（2）ミクロン-レベルアトム化スプレー
超音波振動の作用の下で、インジウム液はミクロンレベル（1〜50μm）の均一な液滴に霧化され、精密ノズルを通して基質表面に噴霧されます。
従来のスプレーと比較して、超音波霧化の液滴はサイズが小さく、分布がより集中しているため、水しぶきや材料廃棄物が減少します。
（3）動的湿潤とレベリング制御
超音波エネルギーは、インジウム液の粘度を低下させ、その流動性を高め、コーティングが基質表面に素早く均一な薄層に広がることができます（厚さは0.1〜10μmの間で制御できます）。
一部の機器は、赤外線加熱または真空環境を統合して、泡をさらに排除し、インジウム層と基質の間の冶金結合を促進します。
2。高精度の均一コーティングを達成するための3つの重要な技術
（1）周波数と振幅の正確な制御
低周波数（20〜40kHz）：高粘度のインジウム合金または厚いコーティングに適しています。強いキャビテーション効果を備えていますが、液滴サイズが大きくなります。
高周波（60〜100kHz）：超霧化を伴うが、より高いエネルギー入力を必要とする超微細コーティング（半導体パッケージなど）に適しています。
適応制御システム：超音波パラメーターを動的に調整して、コーティングの厚さ（レーザーの厚さゲージなど）の実際の時間モニタリングによって一貫性を確保します。
（2）多軸モーションプラットフォームの調整制御
高精度のインジウムコーティングマシンには、通常、CNCモーションプラットフォームまたはロボットアームが装備されており、複雑な湾曲した表面（太陽電池グリッドラインやチップパッドなど）の均一なカバーを実現します。
たとえば、太陽光発電ヘテロ接合（HJT）細胞では、超音波インジウムコーティングは、短絡リスクを回避するために、マイクロン-レベルの電極パターンを正確に満たすことができます。
（3）環境と材料の最適化
不活性ガス保護：インジウム酸化を防ぎます（特に高-温度プロセス）。
基板前処理：表面エネルギーを増加させ、血漿洗浄または化学的活性化を介してインジウム層の接着を強化します。
3.典型的なアプリケーションシナリオ
太陽光発電産業：HJTバッテリー電極インディウムコーティングは、光電気変換効率を改善します。
半導体パッケージ：低-温度欠陥-チップ相互接続パッドの遊離インジウムメッキ。
航空宇宙：高-信頼性のインジウムメッキは、衛星熱界面材料（TIM）に使用されます。