Ուլտրաձայնային ցրումը, որը նաեւ հայտնի է որպես ուլտրաձայնային ցողացմամբ, ցողացվող գործընթաց է, որն օգտագործում է ուլտրաձայնային ատոմիզացման տեխնոլոգիա: Սփրեյի նյութը առաջինը հեղուկ վիճակում է: Հեղուկը կարող է լինել լուծում, sol, կասեցում եւ այլն: , դրանով իսկ ձեւավորելով ծածկույթ կամ ֆիլմ: Ուլտրաձայնային ցողացիրի եւ ավանդական սինգլի միջեւ ամենամեծ տարբերությունը - Հեղուկի կամ երկու - Հեղուկի ցողումն այն է, որ ատոմային սարքը կամ ատոմացնող վարդակը օգտագործում է ուլտրաձայնային վարդակ, այսինքն, ուլտրաձայնային վարդակ:
Համեմատ ավանդական երկուի հետ - Հեղուկի հեղուկացիր, ուլտրաձայնային ցողացիր, բարձրորակ միատեսակ միատեսակ, բարձր հումքի օգտագործման բարձրացում, բարձր ծածկույթների հաստության վերահսկման ճշգրտություն, ավելի քիչ ծածկույթներ եւ պահպանման ցածր ծախսեր: Համեմատած ծածկույթի գործընթացների համեմատ, ինչպիսիք են վակուումային գոլորշիացումը եւ CVD- ն, ուլտրաձայնային ցողումը ավելի տնտեսական բարակ կինոնկարի գործընթաց է: Հատկապես ավելի մեծ պատրաստման մեջ տարածքի բարակ ֆիլմեր, ուլտրաձայնային ցողացման սարքավորումների արժեքը ցածր է վակուումային ծածկույթների սարքավորումների:
Ուլտրաձայնային ցրման հիմնական առավելությունները հետեւյալն են.
1. Բարձր ծածկույթների միատեսակություն
Ուլտրաձայնային վարդակների միջոցով հեղուկ մասնիկների բաշխման միատեսակությունը զգալիորեն ավելի բարձր է, քան երկուսը - Հեղուկ վարդակները, որոնք սովորաբար հայտնի են օդային լակի զենքեր, ուլտրաձայնային վարդակներով ցողումից հետո ծածկույթի համազգեստը նույնպես բարելավվում է: Սովորաբար, ուլտրաձայնային ցրման ծածկույթների միատեսակությունը կարող է հասնել ավելի քան 95% -ի:
2-ը Հումքի բարձր օգտագործման մակարդակ եւ ավելի քիչ շաղ տալ
Քանի որ ուլտրաձայնային ցողումը հեղուկ ատոմացում է ուլտրաձայնային տատանումների միջոցով, ներկը ներկելու գործընթացը չի պահանջում որեւէ գազ, այսինքն, ատոմացիայի գործընթացը ճնշում չի պահանջում: Հեղուկ մշուշը տեղափոխելու համար կիրառվում է միայն շատ ցածր փոխադրողի գազի ճնշում: Հետեւաբար, դա մեծապես նվազեցնում է բարձր մակարդակի հետեւանքով առաջացած հեղուկի ընկալումը եւ շաղ տալը - երկրորդ հեղուկի ճնշման օդի ցողումը, այդպիսով մեծապես բարելավելով ներկի օգտագործումը: Ուլտրաձայնային ցողացվող հումքի օգտագործման արագությունը ավելի քան 4 անգամ ավելի քան 4 անգամ է, որ սովորական օդը ցողում է, եւ օգտագործման արագությունը կարող է հասնել մինչեւ 90% -ի:
3. Բարձր ծածկույթների հաստության վերահսկման ճշգրտություն
Ծածկույթի հաստության ճշգրտության վրա ազդող հիմնական գործոնը ծածկույթի հոսքի արագությունն է, որը նյութի քանակն է, որը բեռնված է ենթաշերտի վրա մեկ միավորի համար: Ուլտրաձայնային վարդակը ճնշման ազդեցություն չունի հեղուկի վրա, այնպես որ ատոմացված լակի ներկերի հեղուկի հոսքը կարող է ամբողջովին վերահսկվել բարձր - ճշգրիտ չափիչ պոմպի միջոցով: Օրինակ, բարձրորակ ներարկիչների հոսքի հսկողության ճշգրտությունը կարող է հասնել վայրկյանում գտնվող պիկոլիտների մակարդակի, իսկ միկրո - ալիքային ուլտրաձայնային վարդակի ձեւավորումը:
4. Ծածկույթի հաստությունը բարակ է, հասնելով տասնյակ նանոմետրեր
Քանի որ ուլտրաձայնային վարդակի լակի ծավալը կարող է հասնել ծայրահեղ ցածր կայուն հոսքի արագության (0.001 մլ / րոպե), շատ փոքր քանակությամբ բեռի վրա կարելի է հասնել substrate- ի վրա, դրանով իսկ հասնելով շատ բարակ չոր ֆիլմի: Որոշ նանոմ նյութերի համար չոր ֆիլմի հաստությունը կարող է լինել այնքան ցածր, որքան տասնյակ նանոմետրեր: Այն կարող է օգտագործվել ապակե ֆիլմեր պատրաստելու համար, ինչպիսիք են թափանցիկ հաղորդիչ ֆիլմերը, հակահայկական արտացոլման ֆիլմեր, ջերմամեկուսիչ ֆիլմեր, հիդրոֆիլային եւ հիդրոֆոբ ֆիլմեր:
Փոստի ժամանակը: Jan - 04 - 2024