අතිශයින් ඉසීම යනු කුමක්ද?

අතිධ්වනික ඉසීම, අතිධ්වනික් ඉසීම ලෙසද හැඳින්වෙන, අතිධ්වනික පරමාණුකරණ තාක්ෂණය භාවිතා කරන ඉසින ක්රියාවලියකි. ඉසිනු ඇති ද්රව්යය මුලින්ම ද්රව තත්වයක පවතී. දියර විසඳුමක් විය හැකිය, සොල්, අත්හිටුවීම ආදිය. ද්රව තීන්ත පළමු වරට සිහින් අංශු බවට පරමාණුක අංශුවලට පරමාණුවා, පසුව උපස්ථරයේ මතුපිට යම් වාහක වායුවක් හරහා ඒකාකාරව ආලේප කර ඇත. එමඟින් ආලේපනයක් හෝ චිත්රපටයක් සාදයි. අතිධ්වනියන්ගේ ඉසීම සහ සාම්ප්රදායික තනි - ට්රිප් හෝ දෙකක් අතර ඇති ලොකුම වෙනස වන්නේ අධික පරමාණුකරණ උපකරණය හෝ තුණ්ඩය පරමාණුකකරණ උපකරණයක් භාවිතා කිරීම, එනම් අතිධ්වනික තුණ්ඩයකි.

සාම්ප්රදායික දෙකකට සාපේක්ෂව - තරලය ඉසීම, අතිධ්වනි ආලේපන තුරන් කිරීමේ වාසි, ඉහළ ආවා. රික්ත වාෂ්පීකරණය සහ සීවීඩී වැනි ආලේපන ක්රියාවලීන් හා සසඳන විට අතිධ්වනික් ඉසීම වඩාත් ආර්ථික තුනී චිත්රපට ආලේපන ක්රියාවලියකි. විශේෂයෙන් විශාල සැකසීමේදී - ප්රදේශ තුනී චිත්රපට, අතිධ්වනික ඉසීමේ උපකරණ පිරිවැය රික්ත ආලේපන උපකරණවලට වඩා අඩුය.
අතිධ්වනික් ඉසීමේ ප්රධාන වාසි වන්නේ:
1. ඉහළ ආලේපන ඒකාකාරිත්වය
අතිධ්වනික තුණ්ඩ අනුව පරමාණුකරණයෙන් පසු දියර අංශු බෙදා හැරීමේ ඒකාකාරිත්වය දෙකකට වඩා සැලකිය යුතු ලෙස ඉහළ අගයක් ගනී. සාමාන්යයෙන්, අතිධ්වනික් ඉසීමේ ඉසීමෙන් ආලේපිත විත්තිකරුව 95% ට වඩා ළඟා විය හැකිය.
2. අමුද්රව්යවල ඉහළ උපයෝගීතා අනුපාතය සහ අඩු විසිරී යාම
අතිධ්වනික් ඉසීම යනු අතිධ්වනික දෝලනය තුළින් ද්රවශීලතා පරමාණුකරණය වන බැවින්, තීන්ත දූපතක් තුළ ද්රව පරමාණුකරණය වේ, තීන්ත ආලේප කිරීමේ ක්රියාවලිය කිසිදු වායුවක් අවශ්ය නොවේ, එනම් පරමාණුකරණ ක්රියාවලියට පීඩනය අවශ්ය නොවේ. ද්රව මීදුම ප්රවාහනය කිරීම සඳහා පරමාණුකරණයෙන් පසු ඉතා අඩු වාහක වායු පීඩනයක් පමණක් යොදනු ලැබේ. එමනිසා, ඉහළ - දෙවන තරලය තුළ පීඩන වායු ඉසීමෙන් ඇති වන ද්රව නැවත සකස් කිරීම සහ ස්ප්ලෑෂ් විශාල වශයෙන් අඩු කරයි. අතිධ්වනික ඉසීමේ අල්ට්සොනික් ඉසීමේ අමුද්රව්ය පරිහරණය කිරීමේ අනුපාතය සාමාන්ය වායු ඉසීමෙන් 4 ගුණයකින් වැඩි වන අතර, උපයෝගීතා අනුපාතය 90% කට වඩා වැඩි විය හැකිය.
3. ඉහළ ආලේපන thickness ණකම පාලන නිරවද්යතාවය
ආලේපන thickness ණකම නිරවද්යතාවයට බලපාන ප්රධාන සාධකය වන්නේ ආලේපයේ ප්රවාහ අනුපාතය, එය ඒකක වේලාවක උපස්ථරයේ පටවා ඇති ද්රව්ය ප්රමාණයයි. අතිධ්වනික තුණ්ඩයට දියර කෙරෙහි පීඩන බලපෑමක් ඇති නොවන බැවින් පරමාණුකෘත ඉසින තීන්ත ද්රවයේ ප්රවාහ අනුපාතය ඉහළ මට්ටමේ සිට නිරවද්යතාවයෙන් සම්පූර්ණයෙන්ම පාලනය කළ හැකි අතර එමඟින් ඉහළ ළඟා කර ගත හැකිය. නිදසුනක් ලෙස, ඉහළ - ප්රවාහ පාලන නිරවද්යතාවය, නිරවද්යතා සිරින්ක් පොම්පය තත්පරයට පිකාඩිටරවල මට්ටමට ළඟා විය හැකි අතර, ක්ෂුද්ර - අතිධ්වනික තුණ්ඩයේ නාලිකා නිර්මාණයෙන් තත්පරයට නැනොලිට්ටර්වල සමස්ත පාලන නිරවද්යතාවය ද ලබා ගත හැකිය.
4. ආලේපන thickness ණකම තුනී, නැනෝමීටර දස දහස් ගණනක් ළඟා වේ
අතිධ්වනික තුණ්ඩයේ ඉසින පරිමාව ඉතා අඩු ස්ථාවර ප්රවාහ අනුපාතයක් (මිලි ලීටර් 0.001) ලබා ගත හැකි බැවින් උපස්ථරයේ ඉතා කුඩා පැටවීමක් ලබා ගත හැකි අතර එමඟින් ඉතා තුනී වියළි චිත්රපටයක් ලබා ගත හැකිය. සමහර නැනෝටෙරියල්ස් සඳහා, වියළි චිත්රපට thickness ණකම නැනෝමීටර දස මෙන් අඩු විය හැකිය. විනිවිද පෙනෙන සන්නායක චිත්රපට, ප්රති-ප්රති-පරාවර්තන චිත්රපට, තාප පරිවාරක චිත්රපට, හයිඩ්රොෆිලික් සහ හයිඩ්රොෆිලික් සහ හයිඩ්රොෆික් චිත්රපට වැනි වීදුරු චිත්රපට සකස් කිරීම සඳහා එය භාවිතා කළ හැකිය.